半導體晶圓制造過程中，超純水的純度要求極-致嚴苛，水中痕量有機碳殘留會吸附在晶圓表面，影響光刻、蝕刻等關鍵工藝，直接導致芯片良率下降。我們的TOC分析儀（電導率法），以ppb級高靈敏度檢測能力，專為半導體超純水監測打造，精準捕捉痕量有機碳，為半導體精密制造保駕護航。

極-致靈敏度，捕捉痕量隱患。半導體超純水對TOC含量要求極-高，通常需控制在1ppb以下。我們的分析儀檢測范圍覆蓋0.001mg/L~1.600mg/L（1ppb~1600ppb），示值誤差僅±5%，重復性RSD≤2%，能精準捕捉超純水中的痕量有機碳，遠超行業監測標準。采用雙波長高效氧化技術，185nm+254nm紫外燈產生強氧化性自由基，確保有機物徹-底氧化，結合差值電導率檢測，徹-底消除無機碳干擾，每一組數據都精準可靠。